నైరూప్య

Photoreactivity Of Epoxy Resins

Cheng-Siang Lee, Shiliang Fan, Zoubida Seghier, Freddy Y.C.Boey, Marc J.M.Abadie


Work had been done to establish the photoreactivity of epoxy resins with respect to the chemical structure of their monomers. Two epoxymonomers had been choosen, both having two epoxy functional groups at each terminal ends. The difference between these two epoxy monomers being the length separating the two functional groups called the “space” group. Results show that the photochemical reactivity is influenced by the chemical structures of monomers, and thus their physical-chemical properties.


నిరాకరణ: ఈ సారాంశం ఆర్టిఫిషియల్ ఇంటెలిజెన్స్ టూల్స్ ఉపయోగించి అనువదించబడింది మరియు ఇంకా సమీక్షించబడలేదు లేదా నిర్ధారించబడలేదు

ఇండెక్స్ చేయబడింది

  • CASS
  • గూగుల్ స్కాలర్
  • J గేట్ తెరవండి
  • చైనా నేషనల్ నాలెడ్జ్ ఇన్‌ఫ్రాస్ట్రక్చర్ (CNKI)
  • CiteFactor
  • కాస్మోస్ IF
  • మియార్
  • రహస్య శోధన ఇంజిన్ ల్యాబ్‌లు
  • యూరో పబ్
  • యూనివర్శిటీ డి బార్సిలోనా
  • ICMJE

మరిన్ని చూడండి

జర్నల్ హెచ్-ఇండెక్స్

Flyer